氧化鈰的硬度僅為6（二氧化硅為7、氧化鋁為9），僅從機械角度來看，以低硬度的氧化鈰去拋光基于二氧化硅的材料，如硅酸鹽玻璃、石英玻璃等，是不具備技術可行性的，但目前氧化鈰拋光粉是拋光基于二氧化硅甚至氮化硅材料的首選拋光粉?？梢娧趸嫆伖夥圻€具有除機械作用之外的其他作用。
       CeO₂質地較軟，能明顯降低對拋光工件表面的劃傷，且CeO₂中變價離子Ce⁴⁺/Ce³⁺的轉換能提高CeO₂與拋光工件之間的化學反應活性，顯著提高拋光速率。在CeO₂晶格中通常會出現氧空位使其理化性能發生變化，一般認為CeO₂可以與拋光工件表面形成Ce-O-Si化學鍵，并隨著拋光工件Ce-O-Si鍵的斷裂對拋光工件進行拋光，化學機械拋光速率同時受
Ce-O-Si鍵形成速率及其拋光工件內部Ce-O-Si斷裂速率的雙重影響。
       氧化鈰拋光的目的是去除工件表面產生的凹凸層及裂紋層，使工件表面透明光滑，達到規定的表面等級，并精確的修正表面的幾何形狀，達到規定的面形精度。在拋光的初始階段，是CeO₂去除玻璃表面凹凸層的過程，使玻璃露出新鮮的表面，同時由于硅酸鹽玻璃的主要組分為SiO₂，其余成分為堿金屬氧化物，它們在拋光過程中會發生水解，在玻璃表面產生含水的硅膠層、硅膠凝膠層，使得玻璃表面軟化，容易被去除。

合理選擇拋光液，能使加工出來的工件表面光亮美觀，色澤鮮艷，光亮奪目，還可以防止工件的銹蝕，保持與提高工件表面的光澤，起到清潔工件與磨具的作用。去除油污，軟化工件表面以加速磨消，減少磨具對工件的沖擊，改善工件條件。拋光液的種類很多，應根據加工條件來選擇。它具有無毒，無腐蝕，不易變質等性能，在光整效率，工作的研磨質量，拋光的光潔度等方面，都顯示出其獨特的效果。
       氧化鋁拋光液的酸堿度就是拋光液的pH值，當拋光液的pH值為9.6時，拋光液的機械作用遠大于化學作用，去除速率比較大，這也導致拋光后拋光片表面產生高損傷層，粗糙度比較大。
       當拋光液的pH值增大為10.84～11.34時，機械作用和化學作用達到一種對等狀態時，此時化學作用的均勻性好，使得表面張力小，質量處理的一致性好，可以得到良好的表面拋光效果。
       當pH值大于11.67時，SiO₂水溶膠在強堿的作用下，生成易溶于水的硅酸，使得硅溶膠中的SiO₂顆粒不能起到磨削作用，變成透明的液體，此時機械作用基本失效，拋光以化學作用為主，表面蝕坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

 一般來說，粒度越大的拋光粉，磨削力越大，越適合于較硬的材料，要注意的是，所有的拋光粉的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢，而最大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制拋光粉的最大顆粒。普通拋光粉之所以存在劃傷，就是有大顆粒的原因。所以一般選擇粒徑分布范圍窄的納米拋光粉。拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度，濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時，漿料濃度因適當調低以得到合適的流動性，一般建議在7-10%。此外，氧化鋁的形貌也是影響拋光效果的一個重要因素：
①當料漿中采用的氧化鋁為球形（尤其為超細粉）時，去除率高，拋光速度快，拋光面不易產生細微劃痕，光潔度高，可用于半導體單晶、石英晶體和精密光學器件等高精尖產品的加工。
②當料漿中使用的是片狀氧化鋁時，由于其具有良好的分散穩定性和平行排列性，可使片狀氧化鋁的上下表面基本平行于被拋光材料的表面，最大限度地避免了材料表面下的損傷，使拋光后的表面平滑如鏡，可用于陶瓷的拋光和光學顯微鏡之類的玻璃表面的拋光。 

1、Na₂O影響α-Al₂O₃相變Na₂O在高溫下（1400℃以上）煅燒時與Al₂O₃反應形成高鋁酸納Na₂O·11Al₂O₃，又稱β-Al₂O₃，在高溫下他的結構是穩定的，將與α-Al₂O₃共存，在煅燒過程中它大大降α-Al₂O₃的轉化速度及轉化率，同時也會將氧化鋁的晶粒變粗，比表面積減少，晶形也不規則。
2、Na₂O影響制品的機械強度和導電性。在耐磨制品及陶瓷應用領域，氧化鈉對氧化鋁制品的機械強度和導電性有很大影響。一般情況下，Na₂O的含量越高，導電率也就越高，氧化鋁陶瓷及耐磨制品的電絕緣性能越差、機械強度也會降低。

1）在軍用領域——用于飛機渦輪葉片、軸等精密鑄造機件、軍械、各種彈簧齒輪液壓件的表面強化處理，消除內應力。
2）在民用領域——用于鈦合金和不銹鋼加工件及制品（不銹鋼餐具、廚房用具）、紡織機械零部件、沖鍛壓磨具、機壓磨具、醫療器械等各種金屬制品的工具清理，表面精整和表面預處理，除氧化皮、除銹、去毛刺、強化、拋光處理。玻璃加工、輪胎制造業及塑料成型等工磨具的清理。